这就是构建下一代笔记本电脑CPU的机器的样子

荷兰光刻机制造商ASML最近取代了应用材料公司，成为全球最大的晶圆厂工具制造商，在有消息称其正在加紧生产新型高NA(数值孔径)EUV(极紫外)机的消息传出后，该公司的未来看起来更加光明。

该系统大约有双层巴士大小，重150,000公斤，能够在半导体上蚀刻宽度仅为8纳米的线条。与上一代产品相比，这显着减少，允许将更多晶体管封装到芯片上，从而实现更快的处理速度和更高的存储容量，这对于人工智能应用至关重要。

主要客户英特尔已经在俄勒冈州的D1X工厂收到了第一台机器，并计划在2025年底前开始使用该系统进行生产。

“英特尔的重点是保持半导体光刻技术的领先地位，去年我们一直在建设EUV专业知识和能力。通过与ASML密切合作，我们将利用High-NAEUV的高分辨率图案作为我们延续摩尔定律并保持我们向最小几何形状发展的强大历史的方式之一。”英特尔技术开发总经理。

ASML表示，迄今为止，该机器已收到10至20个订单，售价高达3.5亿美元，这表明对该技术的乐观预期。尽管有人指责下一代光刻工具用于即将到来的节点的成本效益，但这一点还是出现了。

尽管中国去年是ASML的第市场，但据路透社报道，在美国政府打击向中华人民出口尖端技术之后，该新设备将不会出售给那里的制造商。

ASML独有的EUV光刻技术使用波长仅为13.5nm(几乎是X射线范围)的光来打印微芯片。ASML(和英特尔)表示，技术正在推动摩尔定律向前发展，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构。